Primjena slučajeva PEEK-a u elektroničkom poluvodiču, fotonaponski i FPD industriji (2)

Primjena slučajeva PEEK-a u elektroničkom poluvodiču, fotonaponski i FPD industriji (2)

Držač za reef reef

Držač vafla varalica, alat za ručno pregledavanje vafla.
Peek Polimer je visoko performansan termoplastičan sa odličnom kombinacijom svojstava dizajniranih tako da zadovolji sve veće zahtjeve industrije elektronike.
1. Otpornost na visoku temperaturu: Ima otpornost na toplinu do 300 ° C. Može održati svoju snagu i dimenzionalnu stabilnost pod visokim temperaturama za lemljenje bez olova. Neće se deformirati u roku od 5-10 sekundi na temperaturi od 250-280 ° C. U pratnji fenomena refluksa

2. Otpornost na habanje: visoka mehanička čvrstoća i otpornost na habanje

3. Dimenzionalna stabilnost: Materijal za punjenje smanjuje koeficijent toplotnog širenja, povećava temperaturu izobličenja topline i osigurava strogu dimenzionalnu kontrolu
4. Niska izdvajanja: smanjuje zagađenje i poboljšava pouzdanost u prijavama u kojima dodatna oprema ima čistoće zahtjeve (poput pogona tvrdog diska, kutija za tvrdi disk, kutijama za tvrdi disk)
5. Niska higroskopija koja je vrlo važna za održavanje dimenzionalne stabilnosti i izolacione performanse

Valjci za peek koriste se u elektroničkom poluvodiču, fotonaponskim, FPD industrijama

1. Odlična otpornost na habanje i visoka tvrdoća površine mogu u velikoj mjeri smanjiti proizvodnju prašine.

2. Ultra visoke čistoće, niski taloži i niski izlaz, koji mogu izbjeći zagađenje.

3. Visoka otpornost na toplinu, dugoročna temperatura upotrebe je 260 ° C.

4. Otpornost na hemijsku koroziju, može izdržati većinu kemijskih korozivnih tvari, smanjite oštećenje opreme

Zahtevi za održavanje.

5. Dobra električna izolacija, dugotrajna upotreba u okruženju visokog temperature, još uvijek može održavati dobro

Dobra električna izolacija.

6. Niska buka.

Peek CMP brusni prsten

Alternativni materijal: PPS

Kao važna faza u procesu proizvodnje poluvodiča, hemijsko mehaničko poliranje (CMP) zahtijeva strogu kontrolu procesa, stroge tolerancije i visokokvalitetni površinski oblik i ravninu. Minijarizacija proizvoda i elektroničke opreme dalje se valja. Veći zahtjevi se postavljaju na performanse procesa; Svi ovi faktori postaju sve strože i tako su povećava zahtjeve za uspješnim zavojnim pršticama zavojnice (kritična komponenta CMP procesa). CMP zadržavajući prstenje koriste se za prevrtanje rezine tijekom lampica da bi se osigurao vafli. Centralna energija daje niže poljske cijene, glatke površine, uske planarne tolerancije, višu materijalnu stabilnost i niži otpor vibracije, ali pretpostavka je da se odabir materijala i dizajn CMP pričvršćivanja trebaju biti razumni. Pogotovo ako je donja površina pričvršćivanja CMP-a vrlo ravna, izlaz vafera će se povećati u skladu s tim.

Glavna prednost:

1. Stabilnost visoke dimenzije; Može održavati modul pod visokim temperaturnim uvjetima i poboljšati veće performanse procesa i performanse proizvoda.

2. Jednostavnost obrade;

3. dobra mehanička svojstva; Pogodno za otpornost na udar, sklop brze opreme, dobru brzinu robota i stabilan kvalitet proizvoda.

4. Dobra otpornost na hemijsku koroziju; Sposoban da izdrži koroziju većine hemikalija, što je korisno za zaštitu dijelova i produžiti njihov radni vijek.

5. Dobra otpornost na habanje.

6. Može umanjiti troškove integriranog sustava, a dokazano je da je ulaganje nagrađeno.

Vijci za peek, vijci za peek, vijci za peek

Koristi se za zamjenu: pp \ pa \ pom i druge zajedničke materijale

Karakteristike i prednosti vijaka za peek:

1. Postupak ubrizgavanja može se koristiti za jednokratno oblikovanje, a troškovi obrade je nizak.

2. Otpornost na koroziju, dobra otpornost na različite hemikalije u širokom rasponu

3. Visoka temperatura otpornost: Dugoročna temperatura upotrebe je 260 ° C, a kratkotrajna temperatura upotrebe može dostići 300 ° C.

4. Lagana težina.

5. Odlične električne performanse.

6. Otpornost na zračenje.

Peek vakuum bez označavanja usisne čaše

Alternativni materijal: guma

Obim upotrebe: Za bešavnu apsorpciju zaslona mobilnih telefona, LCD ekrana itd.

Prednost:

1. Trenutno grijanje na 300 stepeni Celzijusa, kontinuirano grijanje na 250 stepeni Celzijusa

2. VACUUM NEZAVISNA Adsorpcija

3. Visoka čistoća, bez halogenih elemenata, bez zagađenja na poluvodičke materijale

4. Otpornost na hemijsku koroziju

5. Visoka čvrstoća i otpornost na habanje

6. Može se nadograditi na proizvodnju antistatičkih zavičaka

Tip za usisavanje vakuuma Peek, vakuumski usisni štap

Opseg primjene: za 2-8 inčni poluvodički vafli ili LED epiktaksijalni vafli

Prednost:

1. Trenutno grijanje na 300 stepeni Celzijusa, kontinuirano grijanje na 250 stepeni Celzijusa

2. VACUUM NEZAVISNA Adsorpcija

3. Visoka čistoća, bez halogenih elemenata, bez zagađenja na poluvodičke materijale

4. Otpornost na hemijsku koroziju

5. Visoka čvrstoća i otpornost na habanje

6. Može se nadograditi na proizvodnju antistatičkih zavičaka